原子层沉积和化学气相沉积有什么不同 原子层沉积(Atomiclayer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。原子层沉积但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。单原子层沉积(atomic layerdeposition,ALD),又称原子层沉积或原子层外延(atomic layer epitaxy)最初是由芬兰科学家提出并用于多晶荧光材料ZnS:Mn以及非晶Al2O3绝缘膜的研制,这些材料是用于平板显示器。由于这一工艺涉及复杂的表面化学过程和低的沉积速度,直至上世纪80年代中后期该技术并没有取得实质性的突破。但是到了20世纪90年代中期,人们对这一技术的兴趣在不断加强,这主要是由于微电子和深亚微米芯片技术的发展要求器件和材料的尺寸不断降低,而器件中的高宽比不断增加,这样所使用材料的厚度降低值几个纳米数量级[5-6]。因此原子层沉积技术的优势就体现出来,如单原子层逐次沉积,沉积层极均匀的厚度和优异的一致性等就体现出来,而沉积速度慢的问题就不重要了。以下主要讨论原子层沉积原理和化学,原子层沉积与其他相关技术的比较,原子层沉积设备,原子层沉积的应用和原子层沉积技术的。原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与。原子层沉积的分析 从原理上说,ALD是通过化学反应得到生成物,但在沉积反应原理、沉积反应条件的要求和沉积层的质量上都与传统的CVD不同,在传统CVD工艺过程中,化学蒸汽不断通入真空室内,因此该沉积过程是连续的,沉积薄膜的厚度和温度、压力、气体流量以及流动的均匀性、时间等多种因素有关;在ALD工艺过程中,则是将不同的反应前驱物以气体脉冲的形式交替送入反应室中,因此并非一个连续的工艺过程。相对于传统的沉积工艺而言,ALD在膜层的均匀性、阶梯覆盖率以及厚度控制等方面都具有明显的优势。在某些应用中,需要在具有很大长径比的内腔表面镀膜,极限的情况下长径比会达到15甚至20,采用传统的镀膜方法是无法实现的,而原子层沉积技术由于是通过在基底表面形成吸附层,进一步通过反应生成薄膜,因而在这方面具有独特的优势,可以在大长径比的内腔表面形成厚度均匀的薄膜。工作原理图近年来,对于X射线谱段光学薄膜的需求和研究也日益增加。由于材料的光学常数和性能在X射线区随波长的变化非常显著,同时,在X射线多层膜制备过程中,对基底表面粗糙度要求很高,膜层也很薄,难于控制,这些问题目前在光学薄膜的研究中,仍然是研究的难点。由于ALD技术是通过反应前驱物在表面。
随机阅读
- 丰台区吴家村路1号邮编 北京市丰台区吴家村路甲八号院润亚时代邮编是多少
- 慈利民和村 中国贫困地区集中在哪?贫困到什么程度?
- 室上速手术复发最多的是多长时间 室上速手术有没有做完不复发的
- 利客来城阳购物广场7楼 青岛利客来集团城阳购物广场有限公司怎么样?
- 常州有哪常州有名画家 常州派画家有哪些
- 英雄小八路电影观后感 读英雄小八路后感
- 嘉定红石路汇丰凯苑 汇丰荷苑怎么样?好不好?值不值得买?
- 兰州市小货车限行时间 晏家坪规划路
- 英语翻译:你父母做什么工作? 你的父母是做什么工作的英文
- 荷花水仙花 描写花的四字词
- 永乐皇帝是谁,是朱栎吗? 长兴 永乐门
- 采用直接法求解约束优化问题时,新的迭代点需要同时满足什么条件 无约束优化问题的充要条件
- 主要的一些路由协议 有哪些 路由协议分为哪几类?
- 北京中智核安科技有限公司怎么样? 中智核安肖刚赵栋伟
- 中国水处理有实力的公司? 反渗透设备国内现状
- 重大活动订餐合同 一般接听订餐电话都有哪些技巧?
- 水仙茶喝了有什么好 大家喝过漳平水仙茶?知道是什么茶?
- 男朋友以借的名义骗你钱了我该怎么办? 男朋友用我的名义借钱是诈骗嘛
- 老北京小吃--豌豆黄 北京小吃豌豆黄的做法窍门
- 求夜雨莹心全部作品集,谢谢~ 御龙记百度云txt