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单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗 四氯化硅与氢气反应离子方程式

2020-10-04知识6

有谁知道四氯化硅与氢气反应的热化学方程? SiCl4+2H2=高温=Si+4HCl这是工业生产硅的方法中的最后一步!(1)氢气与四氯化硅在高温条件下反应的化学方程式为:SiCl4+2H2高温 Si+4HCl.故填:SiCl4+2H2高温 Si+4HCl.(2)两个钠离子可以表示为2Na+;两个水分子可以表示为2H2O;四个硫酸根离子可以表示为4SO42-.故填:2Na+;2H2O;4SO42-.

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗 四氯化硅与氢气反应离子方程式

四氯化硅与氢气氧气反应化学方程式 SiCl4+2H2=高温=Si+4HClSiCl4+O2=高温=SiO2+2Cl2

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗 四氯化硅与氢气反应离子方程式

四氯化硅与氢气反应 SiCl4+2H2=高温=Si+4HCl这是粗硅提纯的最后一步。步骤:1、用焦炭与石英砂(SiO2)混合高温,产生粗硅。(SiO2+2C=高温=Si+2CO)2、将粗硅与氯气高温,生成四氯化硅。(Si+2Cl2=高温=SiCl4)3、将氢气与四氯化硅高温,生成单晶硅。(SiCl4+2H2=高温=Si+4HCl)

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗 四氯化硅与氢气反应离子方程式

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