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原子层沉积的原理 ald原子层沉积 氧化铝
各位高手们,请问PVD与CVD的区别 PVD:用物理方法(如蒸发、溅射等),使镀膜材料汽化在基体表面,沉积成覆盖层的方法。CVD:用化学方法使气体在基体材料表面发生化学反应并形成覆盖层的方法。区别:化学气相沉积(Chemical Vapor...
各位高手们,请问PVD与CVD的区别 PVD:用物理方法(如蒸发、溅射等),使镀膜材料汽化在基体表面,沉积成覆盖层的方法。CVD:用化学方法使气体在基体材料表面发生化学反应并形成覆盖层的方法。区别:化学气相沉积(Chemical Vapor...