285和300氧化层硅片 半导体硅片工艺中有一个是 RCA cleaning

什么是扩散炉 扩散炉是集成抄电路生产线前工序bai的重要工艺设备之du一，它的主要用途是对半zhi导体进行掺杂，即在高温条件dao下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。虽然某些工艺...