硅片清洗去除氧化层用什么 硅片清洗的工艺过程

清洗好的硅片需要立即作氧化氮化吗 清洗好的硅片需要立即作氧化氮化气体渗氮（或软氮化）后直接在炉内做后氧化工艺，是国外常用的一种工艺方法，可得到均匀的1-3微米厚度的氧化层，零件外观是均匀的灰黑色，非常漂亮，成倍提高零件耐腐蚀性能，不需要像楼...