清洗好的硅片需要立即作氧化氮化吗 清洗好的硅片需要立即作氧化氮化气体渗氮（或软氮化）后直接在炉内做后氧化工艺，是国外常用的一种工艺方法，可得到均匀的1-3微米厚度的氧化层，零件外观是均匀的灰黑色，非常漂亮，成倍提高零件耐腐蚀性能，不需要像楼主说的那样，做完渗氮冷到室温后再进行酸洗、氧化，能够避免酸洗工序带来的各种不良影响。氧化色的出现，两种情况：一是氮化过程中氧化，二是冷却过程中氧化。从描述中所说：金相检验氧化色处没有白亮层，这一点来看，应不是冷却过程中造成的吧。
在金属朝清洗机中如何去除硅片的有机物 1、硅片晶圆超声波清洗机能清洗硅片。2、硅片晶圆生产清洗工艺中，使用超声波清洗机有效去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元
太阳能硅片在清洗的过程中怎样防止氧化？ 一般硅片清洗是氢氟酸泡去氧化层，然后用除过氧的水清洗。太阳能硅片不知道有没有不同。
