硅片自然氧化层 半导体硅片工艺中有一个是 RCA cleaning

太阳能硅片在清洗的过程中怎样防止氧化？ 一般硅片清洗是氢氟酸泡去氧化层，然后用除过氧的水清洗。太阳能硅片不知道有没有不同。单晶硅片和多晶硅片的表面硬度是多少？当接触深度在20～32nm左右时，单晶硅片的接触刚度与接触深度成直线关系，硬度和弹...