正性光刻与负性光刻概念 光刻胶的作用

用正性光刻胶代替负性光刻胶要做哪些调整 掩膜的设计要反过来~另外要考虑刻蚀展宽的方向也不同了~光刻工艺流程详解，光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上...