急！！！！磁控溅射，我的靶 电流加不上去， 真空金属溅镀。估计在里从事过源这方面工作的真的极少真空是0.5？百哪个数量级的？1、真空度2、真空室是否洁净3、靶材质量问题4、电压是多少？通常加大的不是电流值度，而是功率！5、冷却水温度过低，导问致真空室产生结露，导致放电，无法正常溅镀。一般冷却水应该是15度6、真空漏气7、真空金属溅镀的介质是什么？是否答氩气？是否已经接入了合适的介质或介质容器是否还有？导入介质的流量是否合适？
直流磁控溅射功率如何计算？电压电流直接相乘，还是跟面积神马的有关？高手指教，谢谢 电压电流直接相乘。另外，一般直流磁控溅射的电源散热量比较大，真正的使用效率只有40%，算是比较好的。国内最好的还是要属珠海的。用电总功率是指的接入电源之前的电压乘电流，外接功率表就好。实际功率为靶材的电压乘电流。并非显示数据。需要实际测量。
真空磁控溅射技术的直流反应溅射出现的问题： 1）靶的污染：靶表面形成了非导电的化合物或者导电很差的化合物之后，除了放电电压及沉积速率变化之外，还会因为靶面状况的动态变化引起膜成分及结构的变化；2）阳极消失：当阳极上化合物沉积到一定厚度时就中断了电荷传导的通路，造成电荷不断积累，最终阳极失去作用，辉光放电不稳定，沉积的膜层性能不一致。因此经常清理阳极是必要的；3）极间打火：随阴阳极覆盖化合物，导电性能变差或丧失使电子积累。若要维持辉光放电，必须提高外加电压，结果造成阴极表面化合物的击穿，形成弧光放电。严重的影响溅射过程的稳定性，并造成膜的缺陷。最有效的解决方法是改变放电模式，采用交流及脉冲溅射。2、中频溅射及脉冲溅射：在靶上加一个交变电压，当工作在负电压阶段时，靶被溅射；工作在正电压阶段时，中和靶面积累的正电荷，这就是交流溅射技术。电压波形是非对称的矩形波的溅射方法称为脉冲溅射；电压波形是对称的方波或正弦波称交流溅射。在一个给定电场强度下，频率越高，溅射产额越低。实验发现在频率为60kHz、80kHz、500kHz和13.5MHz时的溅射产额分别为直流溅射时的100%、85%、70%和55%，通常取10-80kHz。因此也称交流溅射为中频溅射。中频溅射常用于孪生靶，也叫。
