椭圆偏振技术的基本原理 此技术是用来测量“光在反射或穿透样品时，其偏振性质的改变”这样一个数据实验。通常，椭圆偏振多在反射模式下进行。偏振性质的改变主要是由样品的性质，如厚度、复折射率或介电性质（参见英文版Dielectric function），来决定。虽然光学技术受制于先天绕射极限的限制，椭圆偏振却可借由相位资讯及光偏振之状态的改变，来取得埃等级的解析度。在最简单的形式下，此技术可适用于厚度小于一奈米到数微米之间的薄膜。样品必须是由少数几个不连续而有明确介面、光学均匀且具等向性且非吸收光的膜层构成。根据上述的假设，则会不符合标准椭圆偏振处理的程序，因此需要对此技术改进以符合其应用.
椭圆偏振法测薄膜厚度测量时，投射到样品的入射光的入射角是多少度 椭圆偏振反射测试膜厚区别选用Si3N4薄膜Zr O薄膜两种光材料作测试象研究椭圆偏振测量薄膜厚度精度实验结表明，椭圆偏振精度较高，于数量级几十nm光薄
薄膜厚度只能用椭圆偏振光谱测吗 大于0.5m时.这种技术工作良好.然而对于32 nm节点.材料的厚度预计只有100nm的.出来用于测量金属薄膜的密度.它 利用激光器将一个弱的脉冲打到薄膜上从而产 生
