工业由二氧化硅制取高纯硅的原理方程式（3步） 1.SiO2+2C=Si+2CO2.Si+2Cl2=SiCl43.SiCl4+2H2=Si+4HCl第一步 是粗硅 含有未反应完全的杂质碳第二步 转化为SiCl4 沸点较低 50多度 容易转化为气体 从而起到和杂质碳分离的目的，第三步 用还原剂把硅从化合态还原为纯净单质硅
实验室制备二氧化硅 SiO2不用制备的沙子的主要成分就是二氧化硅一般用二氧化硅制备高纯硅工业上是用硅石（SiO2）和焦炭以一定比例混合，在电炉中加热至1600~1800℃而制得纯度为95%~99%的粗硅，。
硅酸为什么不能用二氧化硅制得 C02+H2O=H2CO3SO3+H2O=H2SO43NO2+H2O=2HNO3+NO观察以上方程式可知，无机酸可以通过氧化物+水的方式生成，但前提必须是该氧化物能与水发生反应.SiO2为原子晶体，不溶于水，更不会与水反应.
