SiF4 有毒吗 中文名称：四氟化硅英文名称：silicon tetrafluoride中文名称2：氟化硅分子结构：Si原子以sp3杂化轨道形成σ键。分子形状为正四面体形。。
Hf的理化性质 具有弱酸性，但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用氟气（F？）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），生成气态的四氟化硅 反应方程式如下：SiO？(s)+4 HF(aq)→SiF4↑+2 H？O(l)正因如此，它必须储存在塑料（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）、蜡质制或铅制的容器中。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存，不仅需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。工业制法：工业上用氟氢化钾加热至500℃进行热分解或用萤石（氟化钙CaF2）和浓硫酸加热到700℃时来制备氢氟酸。KHF2-（500℃)→KF+HFCaF2+H2SO4（浓）→（加热）2 HF+CaSO4这样收集到的氟化氢常含有水，硅及硫的化合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏等方法来提纯。这个反应生成的蒸气是氟化氢、硫酸和其他几种副产品的混合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏来提纯。氟气与氢气混合后立刻爆炸，生成。
四氟硅烷的理化性质 分子量：104.08熔点：-95.7℃沸点(241kPa)：-90.2℃升化点：-94.8液体密度(-80℃)j 1590kg/m气体密度(20℃，101.325kPa)：4.370kg/m相对密度(气体，空气=1，20℃，101.325kPa)：3.63比容(21.1℃；101.325kPa)：0.231m/kg临界温度：-14.2℃临界压力：3715kPa熔化热(177.45K)：91.37kJ/kg气化热(182.9K，176kPa)：179.29kJ/kg升化热(178.35K)：246.43kJ/kg比热容(20℃，101.325kPa)：711.76J/(kg·K)蒸气压(-113.3℃)：13.332kPa(-52.6℃)：1013.25kPa(-33.4℃)：2026.5kPa四氟化硅在常温常压下为具有窒息性刺激臭的无色气体，空气中不燃烧。在600℃时与SiCl4反应生成SiClF、SiCl2F及SiCl3F。在湿空气中能形成白色烟雾，水解后生成HF和氟硅酸。3SiF4+(n+2)H2O→2H2SiF6+SiO2·nH2O2SiF4+(n+2)H2O→2HF+H2SiF6+SiO2·nH2O在常温干燥状态下，它与碱、碱土类金属反应生成硅、硅氟化碱等，又与碱及碱土类元素的氧化物或氢氧物反应。与碱金属的氟化物反应生成氟硅酸盐。SiF4+2NaF→Na2SiF6与酒精反应生成烷基正硅酸盐。与格利雅试剂反应。SiF4+3RMgX→R3SiF+3MgFX(R：烷基或丙烯基)干燥的四氟化硅气体无腐蚀性，但有水分时有腐蚀性。能溶于无水酒精、。
