线偏振光垂直入射到四分之一波片，偏振方向于四分之一波片所成角度的不同，如何影响形成圆偏振光还是椭圆 线偏振2113光与玻片光轴的夹角决定。5261线偏洞羡振分成两个相互垂直的偏4102振分量。一个平信颤誉行玻片光轴，一个垂直光1653轴。透过后这两个偏振光会出现pi/2的相位差。就形成椭圆或圆偏振光。当夹角为45度，两个分量大小相等，就是圆偏振光。其它会形成椭圆偏振。夹角0或90度，透过后不变。（另一个分量滑段为零）
椭圆偏振技术的优势 相较于标准的反射强度测量方法，椭圆偏振有许多优点：椭圆偏振量测在光谱中每个波长可取得至少两个参数，如果采用广义椭圆偏振，则可在各波长取得高达16个参数。因其并非量测光之实际强度，而是量测光之强度比例，椭圆偏振较不受光源之不稳定性或是大气环境吸收光之影响。毋需测量参考物。不用进行Kramers-Kronig分析（en：Kramers-Kronig relation），即可取得介电性质（或折射率）之实部及虚部数值。椭圆偏振技术在研究非等向性的样品测量其反射性质，更具其优势。
椭圆偏振技术的基本原理 此技术是用来测量“光在反射或穿透样品时，其偏振性质的改变”这样一个数据实验。通常，椭圆偏振多在反射模式下进行。偏振性质的改变主要是由样品的性质，如厚度、复折射率或介电性质（参见英文版Dielectric function），来决定。虽然光学技术受制于先天绕射极限的限制，椭圆偏振却可借由相位资讯及光偏振之状态的改变，来取得埃等级的解析度。在最简单的形式下，此技术可适用于厚度小于一奈米到数微米之间的薄膜。样品必须是由少数几个不连续而有明确介面、光学均匀且具等向性且非吸收光的膜层构成。根据上述的假设，则会不符合标准椭圆偏振处理的程序，因此需要对此技术改进以符合其应用.
