甲烷，氨气，水，氟化氢的酸性，还原性及稳定性的比较 非金属性比较：F＞O＞N＞C所以酸性（有的这样比较的么？稳定性排序：HF＞H2O＞NH3＞CH4还原性：反转
氟化氢到碘化氢稳定性增强，为什么酸性和还原性也增强？ 以高考的要求来说（本人水平有限。氟化氢是弱酸，不能完全电离，所以是酸性最弱的。其他的都是可以完全电离的，酸性自然是氟化氢最差。其他的依次增强是因为原子半径增大，束缚最外层电子的能力减少。所以HCl、HBr、HI电解能力递增。所以酸性递增。卤离子的还原性从强到弱的顺序是I－＞Br－＞CI－＞F－，氧化性强，还原性必弱。
氟化氢和氢氟酸有哪些特性 1.碱（如苛性钠）：剧烈反应.2.氟气：与50％HF溶液剧烈反应，可能引起火灾.3.三氧化砷：反应产生大量热.4.玻璃、陶器、含硅石金属、天然橡胶及天然皮：此酸可将其溶解.5.除腊、铅及白金外大部分金属：此酸可将其腐蚀.溶解性：易溶于水.其溶液为氢氟酸.氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，为无色透明至淡黄色冒烟液体.有刺激性气味.分子式：HF·H2O相对密度 1.15～1.18.沸点 112.2℃(按重量百分比计为38.2%).市售通常浓度：约47%，其溶质的质量分数可达35.35%.为高度危害毒物.最浓时的密度1.14g/cm3，沸点393.15K（120℃）.具有弱酸性，但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别.腐蚀性强，对牙、骨损害较严重.对硅的化合物有强腐蚀性.应在密闭的塑料瓶内保存.用HF溶于水而得.用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）.因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全解离.氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），生成气态的四氟化硅 反应方程式如下：SiO2(s)+4 HF(aq)→SiF4(g)+2 H2O(l)生成的SiF4可以继续和过量的HF作用，生成氟硅酸：SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq)，氟硅酸是一种二元强酸.正因。
