外延生长的工艺进展 为了克服外延工艺中的某些缺点，外延生长工艺已有很多新的进展。①减压外延：自掺杂现象是使用卤素化合物作源的外延过程中难以避免的现象，即从基片背面、加热体表面以及。
芯片最小能做到多少纳米，达到极限后，该如何突破瓶颈？目前，手机处理器是7nm，台积电即将量产5nm芯片，未来还有3nm、2nm，甚至1nm。根据台积电研发负责人在谈论半导体：-。
材料与材料科学，以及在国民经济中的地位？寻求一文章 关于材料与材料科学，以及在国民经济中的地位？是论文哦。希望有才者多多give米写它的材料，料科学是研究材料的组织。
