硅和氢氟酸反应 是的，常温下，硅单抄晶在纯HF中的腐2113蚀速度很小，但在纯5261HF中加一滴HNO3，腐蚀速4102度会大大增加。我做1653硅料酸洗的，我们的酸就是HNO3和HF的混合酸。在这个过程中，参与反应的不是硅本身，而是硅表面的金属杂质。涉及到电化学腐蚀的知识。通常用的非择优腐蚀剂的配方为：HF(40-42%)：HNO3(65%)=1：2.5它们的化学反应过程为：Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2+4H2O
什么工艺会产生四氟化硅和氟化氢？ 我知道的主要是真空镀膜设备，太阳能电极板之类的东西镀膜用，材料很多，但是基本上都是这种对人体十分有害的东西好像还不是产生的废气，算不上，只是使用不完全造成的残留物
氢氟酸与二氧化硅反应生成四氟化硅气体和水的化学方程式 二氧化硅与氢氟酸反应则生成气态四氟化硅：SiO2(s)4HF(aq)SiF4(aq)2H2O(l)
