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硅的碰撞电离系数 稳压二极管 齐纳击穿时温度系数为负。雪崩击穿时温度系数为正。怎么解释温度与击穿电压的关系?为什么齐

2021-04-03知识3

如何区别齐纳击穿和雪崩击穿 一、性质不同1、雪崩击穿:新产生的载流子在电场作用下撞出其他价电子,产生新的自由电子和空穴对。由于这种连锁反应,势垒层中载流子的数量急剧增加,流过PN结的电流急剧。

PN结是什么? PN结(PN junction)。采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体制作在同一块半导体(通常是硅或e68a84e8a2ad62616964757a686964616f31333363396464锗)基片上,在它们的交界面就形成空间电荷区称PN结。PN结具有单向导电性。P是positive的缩写,N是negative的缩写,表明正荷子与负荷子起作用的特点。一块单晶半导体中,一部分掺有受主杂质是P型半导体,另一部分掺有施主杂质是N型半导体时,P 型半导体和N型半导体的交界面附近的过渡区称为PN结。PN结有同质结和异质结两种。用同一种半导体材料制成的 PN 结叫同质结,由禁带宽度不同的两种半导体材料制成的PN结叫异质结。制造PN结的方法有合金法、扩散法、离子注入法和外延生长法等。制造异质结通常采用外延生长法。P型半导体(P指positive,带正电的):由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的三价元素组成,会在半导体内部形成带正电的空穴;N型半导体(N指negative,带负电的):由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的五价元素组成,会在半导体内部形成带负电的自由电子。在 P 型半导体中有许多带正电荷的空穴和带负电荷的电离杂质。在电场的作用下,空穴是可以移动的,而电离杂质(离子)是固定不动的。N 型。

稳压二极管 齐纳击穿时温度系数为负。雪崩击穿时温度系数为正。怎么解释温度与击穿电压的关系?为什么齐 我从本质上来分析一下哈,可能有点繁琐,我采用分条列出(可能会好看一点吧)一、雪崩击穿的反向击穿电压值具有正温度系数分一下几个过程:1、温度升高,晶格的热振动加剧,使载流子运动的平均自由程缩短;(或者可以从迁移率下降来理解)2、平均自由程缩短就相当于加速跑道缩短了,而如果加速度(外加电压)不变的话,就达不到碰撞电离的速度(雪崩击穿);3、那如果要达到碰撞电离的速度,我们就需要提高外界电压(即提高加速度),也就是雪崩击穿电压变大了;4、综上,温度升高导致雪崩击穿电压升高,即具有正温度系数。二、齐纳击穿的反向击穿电压值具有负温度系数分一下几个过程(只是为了好看一点才分的)1、温度升高,导致禁带宽度变窄(半导体物理知识);2、禁带宽度变窄,则更容易发生隧穿效应(越窄则电场越强,载流子越容易被拉过去);3、越容易发生隧道效应,则就不再需要原来那么大的外界电压啦(即击穿电压),击穿电压减小;4、综上,温度升高,击穿电压下降,即负温度系数。

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