求问，什么是RCA清洗 【RCA清洗】方法：清洗的一般思路是首先去除硅片zd表面的有机沾污，因为有机物会遮盖部分硅片表面，从而使氧化膜和与之相关的沾污难以去除；然后溶解氧化膜，因为氧化层是“沾污陷阱”，也会引入外延缺陷；最后再去除颗粒、内金属等沾污，同时使硅片表面钝化。【RCA清洗】命名：RCA标准清洗法是1965年由容Kern和Puotinen 等人在N.J.Princeton的RCA实验室首创的，并由此而得名。RCA是一种典型的、至今仍为最普遍使用的湿式化学清洗法。
什么是富勒烯，你们用过含有富勒烯成分的护肤品吗？ https：// m.timepie.com/m/apk/and roid.apk(二维码自动识别) (苹果)小程序 参考文献 Ngan，C.L.，Basri，M.，Tripathy，M.，Karjiban，R.A.，&Abdulmalek，E.(2015).Skin 。
什么是“PID”“TID”？我是菜鸟，还是不懂，能用通俗的语言再深入的解释一下吗？先谢谢了。在工程实际中，应用最为广泛的调节器控制规律为比例、积分、微分控制，简称PID。
为什么要引入热载流子概念？热载流子和普通载流子有何区别 热载流子和普通载流子有何区别mos器件中热载流子的产生来源：1、当载流子从外界获得了很大能量时，即可成为热载流子。例如在强电场作用下，载流子沿着电场方向不断漂移，不断加速，即可获得很大的动能，从而可成为热载流子。2、零电场下，载流子通过吸收和发射声子与晶格交换能量，并与之处于热平衡状态，其温度与晶格温度相等。在有电场的作用存在时，载流子可以从电场直接获取能量，而晶格却不能。晶格只能借助载流子从电场间接获取能量，从电场获取并积累能量又将能量传递给晶格的载流子稳定之后，载流子的平均动能将高于晶格的平均动能，自然也高于其本身在零电场下的动能，成为热载流子。对于MOS器件，由于沟道存在热载流子，将引起陷阱(氧化层陷阱、界面陷阱)产生，导致器件特性的退化。表现为漏电流减少，跨导减小，及阈值电压漂移等。【热载流子】在强电场作用下，半导体中载流子的平均动能显著超过热平衡载流子的平均动能。这种被显著加热了的载流子称为热载流子。
