VD技术主要制备哪些功能材料？对使用的基底（衬底）有哪些基本要求？ CVD技术是化学气相沉积Chemical Vapor Deposition的缩写。化学气相沉积乃是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的。
气相沉积分为那几类方法？CVD法包括那几个过程？PVD法有哪些方法，它们各自的原理是咋样的？
常用的成膜材料是哪些呢？ 常用的成膜材料是聚乙烯醇缩甲乙醛、聚乙烯醇缩甲丁醛、聚乙烯醇、火棉胶、玉米朊、羧甲基纤维素钠、聚乙烯吡咯烷酮等；增塑剂有邻苯二甲酸二丁酯、甘油、丙二醇、山梨醇、。
半导体外延生长有哪些方式 外延(Epitaxy，简称2113Epi)工艺是指在单晶衬底5261上生长一层跟衬底具有相同晶格4102排列的单晶材料，外延层可以是同质外延层(Si/Si)，也可以是异质外延层(SiGe/Si 或SiC/Si等)；同样实现外延生长也有很多方法，包括分子束外延(MBE)，超高真空化学气相沉积(UHV/CVD)，常压及减压外延(ATM&RP Epi)等等。本文仅介绍广泛应用于半导体集成电路生产中衬底为硅材料的硅(Si)和锗硅(SiGe)外延工艺。根据生长方法可以将外延工艺分为两大类(表1)：全外延(Blanket Epi)和选择性外延(Selective Epi，简称SEG)。工艺气体中常用三种含硅气体源：硅烷(SiH4)，二氯硅烷(SiH2Cl2，简称DCS)和三氯硅烷(SiHCl3，简称TCS)；某些特殊外延工艺中还要用到含Ge和C的气体锗烷(GeH4)和甲基硅烷(SiH3CH3)；选择性外延工艺中还需要用到刻蚀性气体氯化氢(HCl)，反应中的载气一般选用氢气(H2)。外延选择性的实现一般通过调节外延沉积和原位(in-situ)刻蚀的相对速率大小来实现，所用气体一般为含氯(Cl)的硅源气体DCS，利用反应中Cl原子在硅表面的吸附小于氧化物或者氮化物来实现外延生长的选择性；由于SiH4不含Cl原子而且活化能低，一般仅应用于低温全外延工艺；而另外一种常用硅源TCS蒸气压低，在常温。
PVD和CVD分别是什么？ PVD(Physical Vapor Deposition)-物理气相沉积：指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温。
半导体设备PVD，CVD，磁控溅射这类技术与离子注入技术区别？ 是不是PVD，CVD，磁控溅射是以前半导体行业制造薄膜的方法？而离子注入是新一代半导体制造薄膜的方法？那…
物理学专业（师范类）考研有哪些方向？要考哪几科？什么时候开始准备？ 你好，如果你想学工科的2113话，我强烈建议你5261考自动化或者4102通信工程类的，我认识挺多自动1653化和通信工程毕业的研究生，他们刚毕业的月薪基本都在5000以上。不过这两个专业的考研比较难，但只要你愿意静下心来学，还是没问题的。线性代数其实不难，你去网上找一下视频来学一下，一般都是比较好的学校的教授讲的，我告诉你一个网站，你自己选着看吧，http：//www.soku.com/search_video/q_%E7%BA%BF%E6%80%A7%E4%BB%A3%E6%95%B0如果想考的话，最好提前准备。首先要把你想考的学校了解一下，然后经常去一些考研的论坛上关注最新考研动态，这个很重要，不要一味的闭门造车，这样很危险。最后祝你考研成功
CVD（化学气相沉积）的原理及应用是什么 其含义c是气3相中3化21131学反5应的固体产物沉积到5261表面。CVD装置由下4102k列部件组成；反7应物供应系统，气3相反7应器1653，气4流传送系统。反6应物多为0金属氯化8物，先被加热到一g定温度，达到足够高的蒸汽压，用载气5（一s般为6Ar或H3）送入v反4应器。如果某种金属不a能形成高压氯化4物蒸汽，就代之d以8有机金属化2合物。在反2应器内4，被涂材料或用金属丝悬挂，或放在平面上y，或沉没在粉末8的流化0床中7，或本身就是流化5床中4的颗粒。化3学反3应器中7发生，产物就会沉积到被涂物表面，废气1（多为2HCl或HF）被导向碱性吸收或冷阱。沉积反3应可认4为5还原反2应、热解反7应和取代反0应几a类。CVD反3应可分6为5冷壁反7应与l热壁反0应。在热壁反1应中7，化1学反4应的发生与t被涂物同处一h室。被涂物表面和反3应室的内1壁都涂上b一z层薄膜。在热壁反8应器中1只加热被涂物，反3应物另行导入q。2011-10-2811：18：35
对于碳基芯片的出现你有何见解？ 如果没猜错的话应该所谓学术界自娱自乐搞出来水paper的玩意.利益相关：做光刻机的，有20篇paper，几十个r…
常见的酸性氧化物，和碱性氧化物有哪些 酸性bai氧化物：du一般是非金属元素的zhi氧化物和某些过dao渡金属元素的高价专氧化物。例如三氧化硫属SO3、五氧化二磷P2O5、Mn2O7七氧化二锰、三氧化铬CrO3等。碱性氧化物：包括活泼金属氧化物和其他金属的低价氧化物，如Na2O、CaO、BaO和CrO、MnO。
