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中科院,EUV光刻机,华为,2021,这几个词终于联合到一起

2020-11-16新闻36

任老,亲自去了中科院一趟。这一趟,将值得国内科技圈铭记。

76的任老,女儿还在加拿大,公司核心技术还在被美国“卡脖”,仍然在引领着华为进行了一步一步的突破,去中科院的一趟,说明了太多的问题。

当前互联网时代的有两大基础,第一是网络,华为占据了0.5,第二个是芯片,华为占据了0.1。

网络方面,主要是因为华为的5G能力,因为整个2G到5G时代,全球网络市场给予了华为10几年的发展时间。在2010年以前,美国人相信有思科在,华为的网络和交换机技术不可能跨过思科,要知道,思科当年是可以跟微软、甲骨文、Intel等公司相提并论的。但是低调的华为,从2G时代的依附,到3G时代的发力再到4G时代的赶超,当5G全球订单数量NO.1的时候,美国才反应过来,然后华为在网络方面的影响力,全球份额第一的事实已经成为定局。

有人说,在芯片方面,再给华为10年的时间,华为也有可能再次突破。但是在科技竞争的当下,没有如果可言。当时国内一位柳姓大佬的言论“科技无国界”,也导致了其手下公司停滞的在硬件组装的程度。这一次,华为不会再把一切都自己承担了,有两方面原因,第一方面的原因是因为如果华为独自去完成这项工作,确实耗时很久。第二方面的原因是,科技是一个行业,华为不可能跨界到所有科技领域,还有京东方的屏幕、紫光科技内存、海信的视频解析显示、小米的IOT等等。

华为这次携手中科院,无疑是一件令人拍手称快的事情

一直以来,传统企业的科研工作跟国内的科研所都有一定的差距,因为科研实验环境成本是很高的,很多企业很难负担得起来高昂的设备研发成本。很少有企业像华为前些年,每年把30%的利润拿出来做研发成本投入。甚至在早期华为把利润除了公司内部的消耗外,全部投入网络、芯片研发中。这次华为拜访中科院,摆明了两大计划方向。

第一、2021年-2030年的10年规划

10年规划,分为两个阶段,第一个阶段是在2021年-2025年,期间由中科院发起,联合100+研究所,打造新的四大类机构,这四大类机构就是为了后续的芯片研发做准备,分为,芯片设计方向、类似于龙芯现在的底层架构设计,EUV光刻机方向,显示催化方向

还有基础算法方向。

第二个阶段是2026年到2030年,这5年是成果的5年,相对于当前清单进行反转化策略,用中科院专家的话来说就是“把清单转化成我们的任务单,清单里有什么,我们的任务就有什么”,基于这种愿景,相当于举国之力去解决当前的“卡脖”技术难题,真的有造不出来的东西吗?相信不会的,因为我们在研发出来过更难的。

第二、关于目前最紧迫的EUV光刻机问题的态度

当前国内SMEE拥有的光刻机精密度为90nm,根据其公司技术进度公开数据来看,在2021年可以研发出来28nm的光刻机,跟ASML的光刻机技术差距超过10年。而光刻机因为此前进口受阻,导致短期内也不会有光刻精密度提升的技术。而这一次,中科院跟华为联合,能够突破EUV光刻机技术吗?

诚然,光刻机技术所需要的极端技术有至少三大难题:①高性能滤光技术、②极端紫外线下的高反射条件、③激光器。而光学正是国内科技技术的薄弱点,说实话,这些技术美国也不一定有。是因为我们的技术落后吗?其实不是的,最主要的还是缺时间,所谓试验,是在无数次的失败验证中出来的,这就需要大量的试错,大量的无效投入,才能够追赶上来。

目前为止,最难的不是未来能否研发出来,或者赶上全球芯片的设计+生产进度,因为总有一天会追上来。难的是,在追上来之前,我们能否忍受技术的退后?能否回用14nm、28nm的芯片呢?相信中科院和华为会给我们答案。

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