正型光刻胶和负型光刻胶的区别 最主要的区别就是正胶经曝光显影后可溶与显影液；负胶经曝光显影后不溶与显影液同样一块mask，正胶和负胶曝光显影后图形是相反的
清洗过光刻胶的正胶显影液可以给印刷厂来使用吗 就算你送给印刷厂也用不着呀，现在印刷厂已经是数码时代了，这些老工艺已经淘汰了。
正型光刻胶和负型光刻胶的区别 UV光刻胶分正性胶和负性胶，那他们有什么区别呢？目前最常用的两种正性光刻胶为PMMA和DQN，其中PMMA为单成分胶；DQN为二成分胶，DQ为感光化合物，N为基体材料。。
正胶与负胶哪个更容易做lift-off，原理又是什么 *正胶显影和负胶显影：1、正胶显影：正性光刻胶的曝光区域更加容易溶解于显影液。特性：分辨率高、台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。2、负胶显影：曝光区域发生交联，难溶于显影液。特性：良好的粘附能力、良好的阻挡作用、感光速度快；显影时发生变形和膨胀，所以只能用于2μm的分辨率。
正性光刻胶、正胶显影液、正胶剥离液的储存条件是什么啊？
光刻胶正胶与酒精反应吗 经过光反应后部分可以溶解，可以通过飞秒检测鉴定其结构和变化，正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中；感光剂是光敏化合，最常见的是重氮萘醌（DNQ）。在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。
