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三氯化硼 半导体 三氯化硼主要用作半导体硅的参杂源或有机合成催化剂,还用于高纯硼或有机硼的制取.

2020-10-05知识12

三氯化硼的介绍 三氯化硼,危险化学品。主要用作半导体硅的掺杂源或有机合成催化剂,还用于高纯硼或有机硼的制取。人类吸入、口服或经皮肤吸收对身体有害。可引起化学灼伤。另外,对环境亦有一定危害。

有没有五氯化硼这种分子

氮化硼有什么作用? 作用:1、高温固体2113润滑剂,挤压抗磨5261添加剂,生产陶瓷复合材4102料的添加剂,耐火材料和抗氧1653化添加剂,尤其抗熔融金属腐蚀的场合,热增强添加剂、耐高温的绝缘材料。2、金属成型的脱模剂和金属拉丝的润滑剂。高温状态的特殊电解、电阻材料。3、高温固体润滑剂,挤压抗磨添加剂,生产陶瓷复合材料的添加剂,耐火材料和抗氧化添加剂,尤其抗熔融金属腐蚀的场合,热增强添加剂、耐高温的绝缘材料。4、各种激光防伪镀铝、商标烫金材料,各种烟标,啤酒标、包装盒,香烟包装盒镀铝等等。5、化妆品用于口红的填料,无毒又有润滑性,又有光泽。6、压制成各种形状的氮化硼制品,可用做高温、高压、绝缘、散热部件。也可以做航天航空中的热屏蔽材料。7、由氮化硼加工制成的超硬材料,可制成高速切割工具和地质勘探、石油钻探的钻头。扩展资料制造氮化硼可由三氯化硼经过氮化或氨解后制作而成。六方氮化硼部件可由加热加压和其后的机械加工造出,因为它的硬度与石墨相当,所以加工成本不高。这些部件都由氮化硼粉末制造,以氧化硼作为烧结剂。氮化硼薄膜可以由三氯化硼和氮雏形化学气相沉积后形成。而工业制造是基于两个化学反应:熔化的硼酸与氨、硼酸或碱性。

怎样制备高纯硅 高纯硅的制备一般首先由硅石(SiO2)制得工业硅(粗硅),再制成高纯的多晶硅,最后拉制成半导体材料硅单晶。工业上是用硅石(SiO2)和焦炭以一定比例混合,在电炉中加热至1600~1800℃而制得纯度为95%~99%的粗硅,其反应如下:SiO2+2C=Si+2CO粗硅中一般含有铁、铝、碳、硼、磷、铜等杂质,这些杂质多以硅化构成硅酸盐的形式存在,为了进一步提高工业粗硅的纯度,可采用酸浸洗法,使杂质大部分溶解(有少数的碳化硅不溶)。其生产工艺过程是:将粗硅粉碎后,依次用盐酸、王水、(HF+H2SO4)混合酸处理,最后用蒸馏水洗至中性,烘干后可得含量为99.9%的工业粗硅。高纯多晶硅的制备方法很多,据布完全统计有十几种,但所有的方法都是从工业硅(或称硅铁,因为含铁较多)开始,首先制取既易提纯又易分解(即还原)的含硅的中间化合物如SiCl4、SiHCl3、SiH4等,再使这些中间化合物提纯、分解或还原成高纯度的多晶硅目前我国制备高纯硅多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法。一般说来,由于三氯氢硅还原法具有一定优点,目前比较广泛的被应用。此外,由于SiH4具有易提纯的特点,因此硅烷热分解法是制备高纯硅的很有发展潜力的方法。下面我们就。

三氯化硼主要用作半导体硅的参杂源或有机合成催化剂,还用于高纯硼或有机硼的制取. 根据实验装置图可知,A装置制备氯气,发生反应为:MnO2+4HCl(浓)△.MnCl2+2H2O+Cl2↑,B装置吸收氯气中混有的HCl,用饱和食盐水,C中浓硫酸吸水,干燥氯气,D中氯气与硼粉反应生成三氯化硼,三氯化硼的沸点较低,所以E装置中用冰水浴冷却收集三氯化硼,尾气中有氯气,要用氢氧化钠溶液吸收,由于三氯化硼遇水剧烈水解,为防止氢氧化钠溶液中水进入E装置与三氯化硼反应,所以在E与G之间加浓硫酸装置,(1)根据装置图可知,仪器X为分液漏斗,分液漏斗使用前应进行检漏,故答案为:分液漏斗;检漏;(2)根据上面的分析,B用于除去HCl气体,所以Y试剂为饱和食盐水,BCl3的沸点为12.5℃,易挥发,应冷却收集,所以装置E的作用是冷却和收集三氯化硼,故答案为:饱和食盐水;冷却和收集三氯化硼;(3)实验时应先用氯气将装置中的空气排尽,防止三氯化硼与水反应,所以应先点燃A处酒精灯,再点燃D处酒精灯,故答案为:先点燃A处酒精灯,再点燃D处酒精灯;(4)三氯化硼遇水剧烈反应生成硼酸(H3BO3)和白雾,所以若无装置F,则水会进入装置E,装置E中预期现象是有白雾产生,G装置盛装氢氧化钠溶液吸收尾气,故答案为:有白雾产生;吸收尾气.

三氯化鹏在什么条件下可以形成稳定的络合物? 中文名称 三氯化硼 英文名称 boron trichloride;boron chloride 别 名 氯化硼 分子式 BCl3 外观与性状 无色发烟液体或气体,有强烈臭味,易潮解 分子量 117.19 蒸汽压 101。

液态氯进入下水道后会气化吗? 液态氯气进入下水道会气化。液氯化学名称液态氯,为黄绿色液体,沸点-34.6℃,熔点-103℃,在常压下即汽化成气体,吸入人体能严重中毒,有剧烈刺激作用和腐蚀性,在日光下与其它易燃气体混合时发生燃烧和爆炸,氯是很活泼的物质,可 以和大多数元素(或化合物)起反应。用途液氯一般气化后使用,用途较为广泛,为强氧化剂,用于纺织、造纸工业的漂白,自来水的净化、消毒,镁及其它金属的炼制,制取农药、洗涤剂、塑料、橡胶、医药等各种含氯化合物。化工生产中,由聚乙烯与液氯合成为聚氯乙烯、氯化聚乙烯。广泛用于造纸、纺织、农药、有机合成、金属冶炼、化工原料等行业,及生活用水消毒之用。1.用于大规模集成电路、光纤、高温超导等高新技术领域。2.氯是一种强氧化剂,它能不同程度地氧化冷却水中的某些有机缓蚀阻垢剂。氯还能与水中的有机烃类反应生成氯代烃,该类物质已被证明具有致癌性,而且排放的废水中游离余氯对水生生物有毒害作用。最好与非氧化型杀菌剂、黏泥剥离剂配合使用.3.液氯一般经汽化后使用。用于纺织品和造纸的漂白。冶金工业用于生产金属钛、镁等。化学工业用于生产次氯酸钠、三氯化铝、三氯化铁、漂白粉、溴素、三氯化磷等无机化工产品,还用于生产。

半导体硅的纯度等级怎么分的? 纯氮2113气是半导体工业不可缺少的原料5261气和保护气纯氩4102气在单晶硅的拉制,半导1653体、大规模集成电路生产中是必要的高纯氦主要用于半导体器件的生产电子气体(E lect ron icga ses)半导体工业用的气体统称电子气体.按其门类可分为纯气,高纯气和半导体特殊材料气体三大类.特殊材料气体主要用于外延,掺杂和蚀刻工艺;高纯气体主要用作稀释气和运载气.电子气体是特种气体的一个重要分支.电子气体按纯度等级和使用场合,可分为电子级,L S I(大规模集成电路)级,VL S I(超大规模集成电路)级和U L S I(特大规模集成电路)级.掺杂气体(Dopant Gases)在半导体器件和集成电路制造中,将某种或某些杂质掺入半导体材料内,以使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率,用来制造PN结,电阻,埋层等.掺杂工艺所用的气体掺杂源被称为掺杂气体.主要包括砷烷,磷烷,三氟化磷,五氟化磷,三氟化砷,五氟化砷,三氯化硼和乙硼烷等.通常将掺杂源与运载气体(如氩气和氮气)在源柜中混合,混合后气流连续流入扩散炉内环绕晶片四周,在晶片表面沉积上化合物掺杂剂,进而与硅反应生成掺杂金属而徙动进入硅.

化工原理

什么是标准气体?什么是特种气体? 标准气体一般多用于工业上,如环保标准气体、化工行业、汽车行业等都使用标准气体,粤佳标准气体有CO/N2/CH4/H2/CO2/C2H2等。特种气体是在特定领域中应用的,对气体有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。如焊接混合气体、消防灭火混合气体、血液分析、医用麻醉等气体,粤佳标准气体和特种气体都可根据客户要求定制

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