电子衍射的种类 二维晶体点阵如果我们把晶体结构分析局限于表面原子层，可以发现表层原子排列的规则不一定保持其内部三维点阵的连续性，即未必与内部平行的原子面相同（见晶体表面）。为了用电子衍射方法研究这种表层的二维结构，必须满足以下两个条件：①入射束波长足够短，根据二维点阵衍射的布喇格方程，波长应小于点阵周期；②电子束的穿透和逸出深度限于表面几个原子层。最能满足上述要求的是利用低能（50～500eV）电子束和掠射角接近于零的高能（30～50keV）电子束作为表层结构分析的微探针，分别称为低能电子衍射（lowenergyelectrondiffraction）和反射式高能电子衍射(reflectedhighenergyelectrondiffraction）。低能电子衍射电子衍射一束低能量电子平行地入射样品表面，在全部背向散射的电子中，约有1%为弹性背散射电子（能量与入射电子相同）。由于表面原子排列的点阵特性，这种电子的弹性相干散射将在接收阳极的荧光屏上显示规则的斑点花样。为了检测低能电子的微弱信号，通常采用所谓后加速（post-acceleration）技术，由样品表面背散射的电子在穿过和样品同电位的栅极G1以后，才受到处于高电位的接收阳极的加速，并撞击到荧光屏上产生可供观察或记录的衍射斑点。。
EBSD的IQ指什么 电子背散射衍射(简称EBSD)技术是基于扫描电镜中电子束在倾斜样品表面激发出的衍射菊池带的分析确定晶体结构、取向及相关信息的方法花样（或图像）质量IQ、花样衬度BC与置信指数CI
怎么计算晶胞参数 简单的讲，SEM是用来观察材料表面形貌的，XRD是用来检测材料晶体结构的，使用完全不同的仪器。具体说明如下：SEM是SCANNING ELECTRON MICROSCOPE的缩写，指扫描电子显微镜是一种常用的材料分析手段。扫描电子显微镜于20世纪60年代问世，用来观察标本的表面结构。其工作原理是用一束极细的电子束扫描样品，在样品表面激发出次级电子，次级电子的多少与电子束入射角有关，也就是说与样品的表面结构有关，次级电子由探测体收集，并在那里被闪烁器转变为光信号，再经光电倍增管和放大器转变为电信号来控制荧光屏上电子束的强度，显示出与电子束同步的扫描图像。图像为立体形象，反映了标本的表面结构。为了使标本表面发射出次级电子，标本在固定、脱水后，要喷涂上一层重金属微粒，重金属在电子束的轰击下发出次级电子信号。目前扫描电镜的分辨力为6~10NM，人眼能够区别荧光屏上两个相距0.2MM的光点，则扫描电镜的最大有效放大倍率为0.2MM/10NM=20000X。它是依据电子与物质的相互作用。当一束高能的人射电子轰击物质表面时，被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征X射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子，以及在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。同时，。
有哪几种电子衍射，说明各自的操作特点和基本应用 1）电子显微镜中主要有SAED选区电袭子衍射、μ-衍射、纳米衍射、CBED会聚束衍射、EBSD背散射电子衍射五种电子衍射。2）操作特点：①SAED选区电子衍射采用TEM模式，利用μ级平行入射电子束照射试样，通过物镜像平面处的选区光阑选取特定区域做电子衍射，得到与选择区域对应的电子衍射花样。②μbai-衍射采用STEM模式，利用μ级针du状入射电子束照射试样的固定区域，无需光阑选择成像区域，因此不存在选区衍射误差。③纳米衍射与μ-衍射类似，主要差别在于纳米衍射的入射zhi电子束为纳米级，体积更细小，因此能够对试样的更微小区域进行分析。④CBED会聚束衍射采用STEM模式，入射束由平行束变为锥状会聚束，并且后焦面处得到扩展的衍射斑点（圆盘状），盘的大小与入射束的会聚角有关。因此伴随着会聚角的变化，能够获得散射电dao子的信息，实验过程中要避免透射盘与衍射盘相交。⑤EBSD背散射电子衍射是入射束打到试样上形成的背散射电子发生衍射，形成衍射锥，最终获得EBSD衍射花样。
电子通道效应有哪两种方法呢？ 电子通道效应是入射电子在单晶试样表面大角度扫描过程中产生的背散射电子强度，随晶体取向而改变的效应。检测这些电子信号，可得一幅明暗有一定规律的平行线和一定宽度的。
