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光电所胡松 光刻机涉及到哪些具体的技术领域?

2020-10-04知识8

成都光电所饶长辉:有何个人问题? 个人问题?你想做什么啊?人家只是一个副所长,搞科研的。如果有的话,也由纪律委员会来调查,你在这儿能问到什么

光电所胡松 光刻机涉及到哪些具体的技术领域?

中科院光电技术研究所的超分辨光刻设备,是否可以用于手机计算机等芯片的制造? 你好,可以的,这台机子可以制造的晶圆尺寸不如荷兰的,只能达到4寸,不过4寸的晶圆也足够用来生产手机和电脑的芯片了。当然了,可以做是一回事,会不会去做是另一回事了,单位成本算下来,这台机子制作的芯片价格是很高的,用来制作手机电脑芯片没有市场竞争力。但是可以用于军工领域的专用芯片,这些领域安全至上,可以不计较成本。

光电所胡松 光刻机涉及到哪些具体的技术领域?

世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备宣布研制成功意味着什么?对国内芯片行业有何影响? 新闻资讯军报记者成都11月29日电(吕珍慧、记者邹维荣)国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”…

光电所胡松 光刻机涉及到哪些具体的技术领域?

中国高端光刻机技术现在如何? 光刻机技术,荷兰ASML公司是目前全球最先进的企业,其提供的光刻机技术已经达到7nm水平,目前国内有关光刻机技术还处于90nm工艺水平,要达到28nm工艺水平,也需要借助国外光刻机实现。目前中芯国际,华虹集团已经实现28nm光刻机量产,14nm工艺研发也已完成,他们在国内的年销售额位居第一和第二。那么中国光刻机技术和国外的差距水平到底有多大?根据中科院院士刘明的说法,目前国内光刻技术与国外差距大约15~20年,刘明院士坦言,目前光刻技术是整个集成电路中我们与国外差距最大的。目前荷兰一台机七nm光刻机,价值1亿多美元,而且是全球唯一供货商,目前被终止交货的这台光刻机,按照计划将于年底交付,价值1.2亿美元,近9亿人民币,是目前世界上最先进的,不仅中国,韩国,日本和美国等先进国家也要从荷兰进口,这部光刻机关键零件,来自美国,德国,瑞典,法国,这些全球顶级零配件,全都禁止出口中国,所以ASML公司自信地说,“即便给你全套的图纸,你也造不出来”。即使中芯国际拥有一台7nmmASML光刻机,也有很多使用限制,不能自主CPU代工,也不能给龙芯,申威,等自主CPU代工或者商业化量产,在很大程度上,影响了自主技术的发展,如果失去先进光刻机技术,中芯国际。

刚研制成功的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备意味着什么?对国内行业有何影响? 中科院光电所研发成功的紫外超分辨光刻机在各大媒体上刷屏了,它打破了传统光学光刻分辨力受限于光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局,使用365nm波长就能实现单次曝光最高线宽分辨力达到22nm。除了技术水平之外,中科院的这套光刻机价格非常低廉,项目副总设计师胡松表示其售价会在1000万到2000万元之间,这价格在光刻机中真的是白菜价了,ASML的193nm光刻机售价在7000万美元以上,EUV光刻机售价在1亿欧元以上,国内的光刻机价格仅为EUV光刻机价格2%,不过双方的技术体系也是不同的,国产光刻机现在还取代不了ASML的光刻机。来自中科院官方的消息报道,中科院光电所所长、超分辨光刻装备项目首席科学家罗先刚研究员介绍说,2012年,该所承担了超分辨光刻装备这一国家重大科研装备项目研制任务,经过近7年艰苦攻关,在无国外成熟经验可借鉴的情况下,项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术,完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米(约1/17曝光波长)。在此基础上,项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重。

中国最新研发的22nm光刻机和asml的光刻机有什么区别? 先正面做答:主要还是因为定位上有根本性的不同。先摘录新闻里面的一句原话,这个就当做是前言了:目前荷兰ASML公司垄断的尖端集成电路光刻机,加工极限为7纳米。光电所的光刻机分辨率为22纳米,但定位有所不同。光电所的光刻机擅长加工一系列纳米功能器件,包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片和超表面成像器件,这对中国的遥感成像、生化痕量测量、特种表面材料等领域有重要意义。想理解这个问题,首先要改变一下自己心目中对“芯片”这个概念的定义。一般人对芯片的理解,可能也就局限于电脑cpu、手机芯片,例如intel 8700、骁龙835之类的东西,可是实际上,随着网络的发展,芯片的概念在不断的扩大,凡是拥有运算能力或者集成规模电路的东西,其实都可以被称为“芯片”。例如计算器里面的计算核心(一般被称为单片机)、变压器芯片(如XL1530)等等,其实都是芯片的一种。上图就是封装之后的XL1530芯片,它也是芯片,但是跟一般人认识中的CPU之类的东西差别很大。然后,我们来了解一下光刻机,以及光刻机之间的差别。顾名思义,它是用“光”来“刻”一个图像的机器,“光刻”指的是在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻。

中国光刻机距离顶尖水平还有较大差距,那么同样关键的蚀刻机处在什么地位? 光刻机和蚀刻机是什么?光刻机与蚀刻机是生产芯片的两大重要机子,可以说一个是魂,另外一个是魄。至于说这两个机子的具体功能是什么呢?最简单的解释就是:光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉。这样看起来似乎没什么难的,但是有一个形象的比喻,每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京的线路图都复杂,这就是这光刻和蚀刻的难度。这两者的加工精度是头发丝直径的几千分之一到上万分之一。以16nm的CPU来说,加工尺度为普通人头发丝的五千分之一,加工的精度和重复性要达到五万分之一,更不用说更先进的10nm及7nm的CPU了。我国光刻机的水平我国目前生产光刻机最为先进的企业为上海微电子装备(集团)股份有限公司,这是一家有着国资背景的企业(前两大股东均为国有企业),成立于2002年,至今已有17年的历史,实现了我国光刻机从无到有的地步。光刻机从出现到现在一共历经了五代的发展,现在世界上最新进的光刻机生产企业为荷兰的ASML(阿斯麦),已经可以做到第五代EVU的7nm制程的量产,上海微电子虽然发展速度很快,但是目前只做到了光刻机第四代ArF的90nm制程,且尚无法量产。按量产能力来说差了。

光刻机涉及到哪些具体的技术领域? 电脑匹配,和刻录的文件。

中国自己研制光刻机的前景如何?

#中芯国际#芯片#光刻机

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