正型光刻胶和负型光刻胶的区别 最主要的区别就是正胶经曝光显影后可溶与显影液；负胶经曝光显影后不溶与显影液同样一块mask，正胶和负胶曝光显影后图形是相反的
光刻胶的气味对人体有哪些危害？ 网上有人说：光刻胶的危害主要是溶剂，负胶的溶剂是二甲苯毒性很大，而且非水溶性，难.不过显影去胶用的是碱液，方便无毒。总之，身体使自己，要好好爱惜！。
如何评价“光刻胶用线性酚醛树脂”五月初研制成功的意义？
国内光刻胶市场情况？（感觉此报告有点吹大） 预计2015年我国光刻胶市场需求量主要产品国内市场需求量（吨）紫外负性光刻胶800-850G线正胶及相应液晶胶…
正型光刻胶和负型光刻胶的区别 UV光刻胶分正性胶和负性胶，那他们有什么区别呢？目前最常用的两种正性光刻胶为PMMA和DQN，其中PMMA为单成分胶；DQN为二成分胶，DQ为感光化合物，N为基体材料。。
大家好，光刻胶在芯片生产中的作用是什么，哪几个国家能生产？ 芯片离不开，设计，制造，封装，头钓尾钓，中间老虎钓，它就是制造这关，光刻胶，在芯片制造起作非常重要的作用，纯度，透光性，以及反光效果，有些较微小的晶园体，又需反谢某种特殊频率的电磁光波，该胶反射光谱不同，简单讲有些胶吸收红外线，反射紫外线，这需要特殊工艺与配方去净化提纯光刻胶的化学成份，目前只有日韩两国拥有光刻胶的顶尖技术，我们呢连园珠笔芯的用钢，也是去年才研发出来，就连家家户户都用的那把菜刀，需要三合钢也要从日本我德国进口，光刻胶与光刻机我看太难了。
光刻胶~~光刻胶的概念是什么？ 光刻胶photoresist又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。①光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。②光分解型，采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后，会发生光分解反应，由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。③光交联型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料，在光的作用下，其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，。
