生产芯片(职位wafer PE)对人体有害么,光刻胶显影液之类的,我是女生,还没结婚生子呢 整个半导体工艺上使用的化学药剂,大部分对身体都是有害的,有些还挥发,挺危险的。不过如果是正规大厂,工艺线应该是自动化或者半自动化吧。不像我们学校实验室,涂光刻胶。
正性光刻胶、正胶显影液、正胶剥离液的储存条件是什么啊? 光刻胶一般温度较低情况存储比较好,可以放置冰柜中,显影液,剥离液可以常温存放,放置到储物柜即可 新闻 网页 微信 知乎 图片 。? 2020SOGOU.COM 京ICP证050897号
什么叫正胶显影和负胶显影?掩膜版的正板和负板有什么区别?正胶显影和负胶显影显影结果有什么区别?以及应用和操作上各有什么优缺点?正胶显影:正性光刻胶 的曝光区的。
正性光刻胶、正胶显影液、正胶剥离液的储存条件是什么啊?
什么是光刻胶以及光刻胶的种类 光刻胶2113是一种有机化合物,它5261受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化4102。一般光1653刻胶以液态涂覆在硅片表面上,曝光后烘烤成固态。1、光刻胶的作用:a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中;b、在后续工序中,保护下面的材料(刻蚀或离子注入)。2、光刻胶的物理特性参数:a、分辨率(resolution)。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸(CD,Critical Dimension)来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶的分辨率越好。b、对比度(Contrast)。指光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度。对比度越好,形成图形的侧壁越陡峭,分辨率越好。c、敏感度(Sensitivity)。光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长光的最小能量值(或最小曝光量)。单位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。光刻胶的敏感性对于波长更短的深紫外光(DUV)、极深紫外光(EUV)等尤为重要。d、粘滞性/黏度(Viscosity)。衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加;高的粘滞性会产生厚的光刻胶;越小的粘滞性,就有越均匀的光刻胶厚度。光刻胶的比重(SG,Specific Gravity)是衡量光刻胶的密度的指标。它与光刻胶中的固体含量有关。较大的。