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四氯化硅还原法的优点 请问有人知道多晶硅的工艺指标吗?

2020-10-02知识10

请问有人知道多晶硅的工艺指标吗? 下面介绍几种生产多晶硅的工艺,但我国使用最多的工艺方法是“改良西门子法”。(1)改良西门子法――闭环式三氯氢硅氢还原法改良西门子法是用氯和氢合成氯化氢(或外购氯化氢),氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅,然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯,提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行CDV反应生产高纯多晶硅。国内外现有的多晶硅厂绝大部分采用此法生产电子级与太阳能级多晶硅。A、技术含义。西门子法是自50年代到现在生产多晶硅的主要方法,此法的优点是工艺与设备比较简单,多晶硅的纯度与形状能满足直拉和区熔单晶的要求,其缺点是直接还原率低(;生产的副产品较多(7a686964616fe59b9ee7ad9431333264633439有SiCl4,HCl等);还原温度高(1150℃)。国外目前生产使用的基本上都是改良西门子法。此项技术包括:还原炉尾气的干法回收,HCl和H2在流程中实现闭:SiCl4氯氢化法的工业试验;多晶硅棒直径达150mm,长度超过1m的12对以上的还原炉的研究开发;进一步提高纯度的研究。B、技术经济指标。1Kg多晶硅消耗:硅粉≤2Kg,氢气≤10M3;还原炉电耗不大于≤150KWh/Kg;SiCl4,HCl,H2实现流程闭路;一级品率>90%。C、应用范围。该技术应用于多晶硅的。

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怎样制备高纯硅 高纯硅的制备一般首先由硅石(SiO2)制得工业硅(粗硅),再制成高纯的多晶硅,最后拉制成半导体材料硅单晶。工业上是用硅石(SiO2)和焦炭以一定比例混合,在电炉中加热至1600~1800℃而制得纯度为95%~99%的粗硅,其反应如下:SiO2+2C=Si+2CO粗硅中一般含有铁、铝、碳、硼、磷、铜等杂质,这些杂质多以硅化构成硅酸盐的形式存在,为了进一步提高工业粗硅的纯度,可采用酸浸洗法,使杂质大部分溶解(有少数的碳化硅不溶)。其生产工艺过程是:将粗硅粉碎后,依次用盐酸、王水、(HF+H2SO4)混合酸处理,最后用蒸馏水洗至中性,烘干后可得含量为99.9%的工业粗硅。高纯多晶硅的制备方法很多,据布完全统计有十几种,但所有的方法都是从工业硅(或称硅铁,因为含铁较多)开始,首先制取既易提纯又易分解(即还原)的含硅的中间化合物如SiCl4、SiHCl3、SiH4等,再使这些中间化合物提纯、分解或还原成高纯度的多晶硅目前我国制备高纯硅多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法。一般说来,由于三氯氢硅还原法具有一定优点,目前比较广泛的被应用。此外,由于SiH4具有易提纯的特点,因此硅烷热分解法是制备高纯硅的很有发展潜力的方法。下面我们就。

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什么是硅源呢? 在多晶硅生产中,有人将含有硅的原料称为硅源。三氣氢硅(SiHCl3)、四氯化硅(SiCU)、二氯二氢硅(SiH2Cl2)、硅烷(SiH4)都是硅源。每种硅源都有各自的特性,但都是含有硅元素的。

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