机理和原理有什么区别？ 原子层沉积氧化铝生长机理

原子层沉积的原理 原子层沉积2113是通过将气相前驱体脉冲交替地通5261入反应器并在4102沉积基体上化学吸附1653并反应而形成沉积膜的一种方法（技术）。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需...