位错密度的位错密度的测定 位错运动的晶格阻力随位错宽度

位错密度的位错密度的测定 1.切割、研磨样品。2.化学抛光：采用HF：HNO=1：（3~5)的抛光液。注意反应不要太剧烈，以避免样品氧化。最好不让晶体表面暴露于空气之中。3.化学腐蚀：一般HF：CrO3(33%)水溶。模具高手注意 晶格中位...