真空镀膜原理是什么？ 蒸发装置沉积示意图

真空镀膜原理是什么？ 真空镀膜原理：1、物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用...