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氟化硅在标准状况下 四氟化硅制取硅
四氟化硅制取硅 可以一步反应,2113用氢气还原即5261可SiF4+2H2=4HF+Si(由于反应物皆4102为气体,则须标注沉淀1653符号)条件是高温,原理内类似于四氯容化硅的还原产物中 氟化氢与单质硅 在该条件下极难反应,可以认为不...
四氟化硅制取硅 可以一步反应,2113用氢气还原即5261可SiF4+2H2=4HF+Si(由于反应物皆4102为气体,则须标注沉淀1653符号)条件是高温,原理内类似于四氯容化硅的还原产物中 氟化氢与单质硅 在该条件下极难反应,可以认为不...