光刻 \湿刻＼干法刻蚀有何不同 rie氟碳化合物去除

等离子体刻蚀是什么？ 等离子体刻蚀（也称干法刻蚀）是集成电路制造中的关键工艺之一，其目的是完整地将掩膜图形复制到硅片表面，其范围涵盖前端CMOS栅极（Gate）大小的控制，以及后端金属铝的刻。求多晶硅太阳能电池制作工艺概述？？ 要大规模开发...