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栅氧化层电容 求几种集成电路工艺中高精度电阻和电容的制作方法??
如果在1000进行氧化,假设没有初始氧化层,则完成1000栅氧化层需要多少时间 流3569 流3569 氧化层相当于结电容的介质,根据平板电容容量的公式cj=εsd,d是介质的厚度,可以看出结电容容量跟介质厚度成反比,氧化层越薄电容量越大,...
如果在1000进行氧化,假设没有初始氧化层,则完成1000栅氧化层需要多少时间 流3569 流3569 氧化层相当于结电容的介质,根据平板电容容量的公式cj=εsd,d是介质的厚度,可以看出结电容容量跟介质厚度成反比,氧化层越薄电容量越大,...