去除si表面的氧化层 什么是晶圆.

光电子工艺流程中APM清洗的作用和目的是什么？APM清洗前后一般有哪些工艺步骤？ APM溶液由一定比例的NH4OH溶液、H2O2溶液组成，硅片表面由于H2O2氧化作用生成氧化膜（约6nm呈亲水性），该氧化膜又被NH4OH腐蚀，腐蚀后立即又发...