对于芯片这一个领域，很多人应该都有了一点的了解，因为今年在芯片领域出了很多事件，美国今年在技术上对华为做了一些小动作，限制他们的发展，这样也使得很多人提问，难道我国真的不行，真的没有能力去生产一些芯片吗？
其实答案并不是笼统回答的，我国有中芯国际这一个比较大的芯片代工厂，但是中芯国际，目前最大的成就是突破了14纳米制造技术，让中国芯加速发展。
然而如果要从深层次上去看中芯国际做的并不够，因为拿台积电来做比较的话，台积电现在已经能够批量生产7纳米的芯片，就连5纳米的芯片也要大规模生产了，我们距离他们还差了几个级别。
中芯国际确实拥有n+1工艺，可以生产出替代7纳米芯片工艺的芯片，但是这并不意味着我们在芯片上有了很好的突破。
那从一个级别提升到另一个级别，这个技术究竟有多难？据了解，芯片的级别提升其实就是把晶体管的体积缩小，正是这样一个看起来相当简单的问题却难住了我们。
如果我们单独从这个问题上去攻克，那我们可能要很久的时间，或许花了时间还不一定有成就，所以我国就从其他方面入手，让14纳米的制造技术获得了突破。
我国的鼎汇微电子，因为今年的特殊情况和自己的先进技术成为了国内CMP抛光垫行业中一个比较突出的行业，他们有一项比较先进的技术去了解这一技术打破了国外对CPM化学机械抛光的垄断，这一技术进行抛光质量更好而且能够让化学腐蚀和机械消磨处于平衡状态。
鼎龙CMP制程材料现在不仅是国内唯一一个能够12寸CMP制成材料应用的评价中心，而且还拥有制造集成电路28纳米的技术节点抛光垫量产技术。
这个领域能够有这样的突破，其实对于我们的发展来说也是有利的，他可以帮助我国其他芯片研究企业，让他们有可以借鉴的地方，然后共同助力中国芯的发展。
好了，今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！
