椭圆偏振技术的基本原理 此技术是用来测量“光在反射或穿透样品时，其偏振性质的改变”这样一个数据实验。通常，椭圆偏振多在反射模式下进行。偏振性质的改变主要是由样品的性质，如厚度、复折射率或介电性质（参见英文版Dielectric function），来决定。虽然光学技术受制于先天绕射极限的限制，椭圆偏振却可借由相位资讯及光偏振之状态的改变，来取得埃等级的解析度。在最简单的形式下，此技术可适用于厚度小于一奈米到数微米之间的薄膜。样品必须是由少数几个不连续而有明确介面、光学均匀且具等向性且非吸收光的膜层构成。根据上述的假设，则会不符合标准椭圆偏振处理的程序，因此需要对此技术改进以符合其应用.
跪求用椭圆偏振法测量薄膜厚度及折射率的实验数据 椭圆偏振光法测定介质薄膜的厚度和折射率在现代科学技术中，薄膜有着广泛的应用.因此测量薄膜的技术也有了很大的发展，椭偏法就是70年代以来随着电子计算机的广泛应用而发展起来的目前已有的测量薄膜的最精确的方法之一.椭偏法测量具有如下特点：能测量很薄的膜（1nm），且精度很高，比干涉法高1-2个数量级.是一种无损测量，不必特别制备样品，也不损坏样品，比其它精密方法：如称重法、定量化学分析法简便.可同时测量膜的厚度、折射率以及吸收系数.因此可以作为分析工具使用.对一些表面结构、表面过程和表面反应相当敏感.是研究表面物理的一种方法椭偏仪的光路图椭偏仪的基本原理入射光的P分量入射光的S分量反射光的P分量和S分量的比值—椭圆参量r=RP/Rs=tanyexp(iD)=f(n1，n2，n3，f1，d，l）
椭圆偏振技术的简介 分析自样品反射之极化光的改变，椭圆偏振技术可得到膜厚比探测光本身波长更短的薄膜资讯，小至一个单原子层，甚至更小。椭圆仪可测得复数折射率或介电函数张量，可以此获得基本的物理参数，并且这与各种样品的性质，包括形态、晶体质量、化学成分或导电性，有所关联。它常被用来鉴定单层或多层堆叠的薄膜厚度，可量测厚度由数埃（Angstrom）或数奈米到几微米皆有极佳的准确性。之所以命名为椭圆偏振，是因为一般大部分的极化多是椭圆的。此技术已发展近百年，现在已有许多标准化的应用。然而，椭圆偏振技术对于在其他学科如生物学和医学领域引起研究人员的兴趣，并带来新的挑战。例如以此测量不稳定的液体表面和显微成像。1 基本原理 2 实验细节 2.1 实验装置 2.2 数据搜集 2.3 数据分析 3 定义 3.1 单波长 与 光谱 椭圆偏振技术 3.2 标准 与 广义 椭圆偏振理论(非等向性)3.3 琼斯矩阵 与 穆勒矩阵 型式（去偏极化）4 进阶实验方法 4.1 椭圆偏振成像 4.2 原位椭圆偏振 4.3 椭圆偏振孔隙测定 4.4 磁光广义椭圆偏振 5 优势
