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为什么在半导体器件制造过程中需要衬底材料? mocvd功率型超晶格激光器件

2021-04-28知识8

为什么在半导体器件制造过程中需要衬底材料? 经常看到一些新闻,表示某国高科技企业开发了一种新型衬底材料,与GaN晶格匹配,可以良好生长GaN。为什么…

mocvd设备是做什么的?怎么运作的 MOCVD 设备2113是制作LED外延片的关键设备,而LED外延片的水5261平决定了整个LED产业4102的水平。我国于16532003年正式实施“国家半导体照明工程”,并在“十五”、“十一五”重点攻关课题和“863”计划中,将MOCVD设备国产化列入重点支持方向。在国家策的支持下,“十五”期间,我国在MOCVD设备国产化方面已取得了初步成效。中国电子科技集团公司第四十八研究所通过消化吸收和关键技术再创新等措施,研发成功了GaN生产型MOCVD设备(6*2″),填补了国内空白,使长期制约我国LED产业发展的装备瓶颈得以突破。同时,中科院半导体所、南昌大学、青岛杰生电器等单位也成功研发了研究型的MOCVD设备。然而,国产MOCVD设备还存在以下问题:(1)国产MOCVD设备仍处于技术跟踪阶段,设备产业化水平与生产需要不相适应 目前,国内研制的MOCVD设备最大产能为6片(48 所的GaN-MOCVD)。然而,截至到2007年12月,在国外推出的最新型MOCVD设备中,AIXTRON已推出行星式反应器的42片机(AIX2800G4 HT)和CCS反应器的30片机(CRIUS)。由于产能的差距,小批量的MOCVD设备外延片生产成本较高,大大降低了设备的性价比,使得国产设备刚研发出来就已经落后了。量产企业对单批产能的最低。

外延设备mocvd? 机械电子工程专业,普通二本,目前刚开始接触外延设备工作,如何才能成为一名外延设备工程师

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