纳米二氧化硅粉体符合国家产业政策吗 爱应用问仁间为您解答：中国有GB10517~10530-89标准。特别是从生产设备名称、原材料和生产流程看，几乎与生产纳米二氧化硅完全相同。现将部分有关数据摘录如下：《橡胶原材料手册》第487页表2-3-20白碳黑的ASTM分类命名ASTM粒径 水合二氧化硅 ASTM粒径 水合二氧化硅nm 比表面积m2/g 商品 nm 比表面积m2/g 商品1~10 HS-010无 40~48 HS500无11~19 170~300 HS-100有 49~60 HS60020~25 150~200 HS-200有 61~100 HS-700有26~30 130~175 HS-300有 101~200 HS-800无31~39 60 HS-400有 201~500 HS-900无《橡胶原材料手册》第487页表2-3-21 沉淀法白碳黑的分类（ISO/DIS 5794/3）等级 表面积，m2/g 等级 表面积，m2/gA 201~260 D 101~135B 166~200 E 61~100C 136~165 F 20~50《橡胶原材料手册》第487页表2-3-23 白碳黑的分类(GB10517~10530—89)类别 表面积m2/g 类别 表面积m2/g 类别 表面积m2/gA>；190 C 136~160 E 71~105B 160~190 D 106~135 F《橡胶原材料手册》第488页列出了我国沉淀法白碳黑的主要牌号的比表面积的参数牌号 BET比表面积m2/g 牌号 BET比表面积m2/g沪东白碳黑 180 Hi-Si-233南昌 252通化白碳黑 198 Hi-Si-255南昌 232更楼白碳黑 364 青岛白。
纳米二氧化硅做接触角前，怎么压片啊？ 压片法2113与物质本身的化学性质有关，二氧化5261硅纳米粉4102体压片法测定接触角不容易做1653好，即使压好片也会在滴溶剂时有渗透现象而测不好。如果你的氧化硅纳米粉体颗粒在10nm以下可用光谱法（北京中科院物理所），如果粉体颗粒在10nm以上可用粉体接触角的方法做。这个方法简便快速是当前纳米粉体接触角测定的较有效的方法之一。有现成的仪器，上海（华东师范大学）北京都能做，你自己也可做个测定装置，不过要化时间，有一定难度。供参考
纳米二氧化硅做接触角前，怎么压片啊？ 但是也不成功问了有经验的说是主要是因为本身的性质楼主找到了解决方法的时候也发个邮件和小弟分享一下zhaoaji@yahoo.com.cn先谢过了 匿名用户 1级 压片法与物质本身的化学。
