磁控溅射中工件表面温度如何实时传送 二氧化硅2113(SiO2)薄膜是一种性能优良，应用广泛5261的介质薄膜。随着微电子技术和集4102成电路的1653快速发展，SiO2薄膜由于其稳定的化学性质和电绝缘性质，在集成器件中作为表面钝化膜和多层布线层间介质膜，更显示出它的重要地位，SiO2薄膜的制备工艺也成为集成电路制造技术重要内容。SiO2薄膜的制备方法得到了发展与应用，主要有物理气相沉积、化学气相沉积、氧化法、溶胶凝胶法和液相沉积法等。其中物理气相沉积(PVD)物理气相沉积主要分为蒸发镀膜、离子镀膜和溅射镀膜三大类。最新发展起来的磁控射频溅射技术，能达到快速和低温的要求，不仅弥补了射频溅射的缺点，大大减小了电子对衬底表面直接轰击造成的损伤，且能在较低的功率和气压下工作。绝缘体和导体均可溅射，工艺简单，衬底温度低，薄膜厚度的可控性、重复性及均匀性与其他薄膜制备方法相比有明显的改善和提高，因而得到了广泛使用。你可以参考一下以下文献：许生，侯晓波，范垂祯，等.硅靶中频反应磁控溅射二氧化硅薄膜的特性研究[J].真空，2001，(5)：1~6.[8]郑祥钦，郭新立，廖良生，等.脉冲激光沉积硅基二氧化硅薄膜的蓝光发射[J].半导体学报，1998，19：21~24
请问ITO&BPO是什么意思？ ITO(InformationTechnology Outsourcing)，即信息技术外包，是指服务外包发包商委托服务外包提供商向企业提供部分或全部信息技术服务功能，主要包括信息技术的系统、应用。
用磁控溅射法法制备二氧化硅薄膜，二氧化硅薄膜的硬度与通氧量有什么关系？ 在辉光放电的气压范围内，通氧量越大，SiO2薄膜越接近化学计量比，薄膜硬度越高。再者，可以通过提高基片温度增加薄膜硬度。
