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阳极氧化工艺流程 不同工艺下栅氧化层厚度

2021-04-25知识3

镀铬层厚度的标准是多少? 没有镀铬层2113厚度国家标准5261,只有镀铬层厚度测量标准。一般都是合4102同规定。通常1653情况是:防护-装饰性镀铬:0.5~1微米,若需要耐磨可增加到2个微米,镀硬铬一般为5~80微米,特殊的可达300微米,用于修复工件尺寸最高可达1000微米,即1毫米厚。镀乳白铬:30~60微米,加镀光亮耐磨层厚度一般50~150微米。多孔性镀铬:比较复杂可以100微米以下,也可大于150微米。镀铬层具有很高的硬度,根据镀液成分和工艺条件不同,其硬度可在很大范围400~1200HV内变化。镀铬层有较好的耐热性,在500℃以下加热,其光泽性、硬度均无明显变化,温度大于500℃开始氧化变色,大于700℃硬度开始降低。镀铬层的摩擦系数小,特别是干摩擦系数,在所有的金属中是最低的。所以镀铬层具有很好的耐磨性。扩展资料:从常用的铬酸镀液镀铬,与其他单金属镀液相比,镀铬液虽成分简单,但镀铬过程却相当复杂,并具有如下特点。①镀铬液的主要成分不是金属铬盐,而是铬的含氧酸—铬酸,属于强酸性镀液。电镀过程中,阴极过程复杂,阴极电流大部分消耗在析氢及六价铬还原为三价铬两个副反应上,故镀铬的阴极电流效率很低(10%~18%)。而且有三个异常现象:电流效率随铬酐浓度的升高而。

为什么在栅极电压相同的情况下不同氧化层厚度的MOS结构所形成的势阱存储电荷的容 氧化层相当于结电容的介质,根据平板电容容量的公式Cj=εS/d,d是介质的厚度,可以看出结电容容量跟介质厚度成反比,氧化层越薄电容量越大,相同栅极电压存储的电荷Qg=CV也。

硅板上氧化层厚度的测定方法 1.利用刻蚀工艺,比如说加2113多少5261刻蚀剂在多少时间内可以刻蚀多少的厚度,然后4102对比参考数据2.光学的方1653法,利用硅和氧化硅的折射率的差别,从而使圆偏光变成椭偏光,利用软件来计算,可以得到氧化层的厚度+周期厚度的形式,再根据简单的推断,可得氧化层的厚度,在精确调节光路的情况下可以得到1nm的精确度。硅钙板具有防火、防潮、隔音、隔热等性能,在室内空气潮湿的情况下能吸引空气中水分子、空气干燥时,又能释放水分子,可以适当调节室内干、湿度、增加舒适感。天然石膏制品又是特级防火材料,在火焰中能产生吸热反应,同时,释放出水分子阻止火势蔓延,而且不会分解产生任何有毒的、侵蚀性的、令人窒息的气体,也不会产生任何助燃物或烟气。

#不同工艺下栅氧化层厚度

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