硅与氢氟酸反应的化学方程式 Si+4HF=SiF4↑+2H2↑生成四氟化硅(氟化硅)和氢气
氢氟酸和硅反应的离子方程式是什么 氢氟bai酸和硅反应的离子方程式是:Si+4HF=SiF4+2H2(H2后面du加气体符号zhi)氢氟酸是dao氟化氢气体的水溶版液,清澈,无色、发烟的腐权蚀性液体,有剧烈刺激性气味。熔点-83.3℃,沸点112.2℃,密度0.888g/cm3。易溶于水、乙醇,微溶于乙醚。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能完全电离,所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。具有极强的腐蚀性,能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。实验室一般用萤石(主要成分为氟化钙)和浓硫酸来制取,需要密封在塑料瓶中,并保存于阴凉处。
氢氟酸与二氧化硅发生反应,生成四氟化硅气体和水,该反应的化学方程式为 4HF+SiO2=SiF4+2H2O