三氟化氮（NF （1）NH3+F2→NF3+NH4F中，N元素的化合价由-3价升高为+3价，F元素的化合价由0降低为-1价，由电子守恒、原子守恒可知反应为4NH3+3F2=NF3+3NH4F，该反应中转移6e-，电子转移的方向和数目为，故答案为：；（2）27.0mL NF3和水充分反应，生成 18.0mL NO（同温、同压下），则发生3NF3+H2O→2NO+HNO3+HF，由原子守恒可知反应为3NF3+5H2O═2NO+HNO3+9HF，故答案为：3NF3+5H2O═2NO+HNO3+9HF；（3）NF3与水反应生成NO、硝酸、HF，NO易氧化生成红棕色气体二氧化氮，硝酸和HF易形成酸雾，则产生红棕色气体、产生刺激性气味气体、产生白雾易于发现，故答案为：产生红棕色气体、产生刺激性气味气体、产生白雾．
三氟化氮NF BA.NF 3 与氨分子结构相似，是极性分子；C、D运用氧化还原反应有关概念可知NF 3 的氧化性比F 2 弱，NF 3 的还原性比NH 3 弱。
三氟化氮的介绍 三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
