二氧化硅与碳反应的化学方程式？ 二氧化硅与碳反应的化学方程式：SiO2+2C=高温=Si+2CO（气体）如果C不足，估计会部分生成SiC，部分还是SiO？而CO？应该是C和O？反应生成的。C+O？=CO？二氧化硅，纯的。
四氟化碳与硅和二氧化硅的反应有毒吗，对人体有医学吗，等离子刻蚀机的辐射大吗？ 苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），位于国内最的大的MEMS产业集聚区—苏州纳米城。利用M
四氟化碳对人体有什么危害 你好，楼主：【四氟化碳和氧气在高温下不反应】四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-H2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。危害性概述危险性类别：GB2.2 类不燃气体 侵入途径：吸入 健康危害：吸入高浓度的四氟化碳出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。
