芯片里面有几千万的晶体管是怎么实现的？ 关键点不是操作的步骤，而是怎么弄的那么小，毕竟，按照普通人的理解，细都头发丝就很难准确操作了，希…
晶圆制造工艺-ETCH 最低0.27元开通文库会员，查看完整内容>；原发布者：wy58460647晶圆制造工艺流程1、表面清洗2、初次氧化3、CVD(Chemical Vapor deposition)法沉积一层Si3N4(Hot CVD 或LPCVD)。（1）常压CVD(Normal Pressure CVD)（2）低压CVD(Low Pressure CVD)（3）热CVD(Hot CVD)/(thermal CVD)（4）电浆增强CVD(Plasma Enhanced CVD)（5）MOCVD(Metal Organic CVD)&分子磊晶成长(Molecular Beam Epitaxy)（6）外延生长法(LPE)4、涂敷光刻胶（1）光刻胶的涂敷（2）预烘(pre bake)（3）曝光（4）显影（5）后烘(post bake)（6）腐蚀(etching)（7）光刻胶的去除5、此处用干法氧化法将氮化硅去除6、离子布植将硼离子(B+3)透过SiO2 膜注入衬底，形成P 型阱7、去除光刻胶，放高温炉中进行退火处理8、用热磷酸去除氮化硅层，掺杂磷(P+5)离子，形成N 型阱9、退火处理，然后用HF 去除SiO2 层10、干法氧化法生成一层SiO2 层，然后LPCVD 沉积一层氮化硅11、利用光刻技术和离子刻蚀技术，保留下栅隔离层上面的氮化硅层12、湿法氧化，生长未有氮化硅保护的SiO2 层，形成PN 之间的隔离区13、热磷酸去除氮化硅，然后用HF溶液去除栅隔离层位置的SiO2，并重新生成品质更好的SiO2薄膜，作为栅极氧化层。14、LPCVD。
请问什么是CV测试 电容-电压（C-V）测试广泛用于测量半导体参数，尤其是MOSCAP和MOSFET结构。此外，利用C-V测量还可以对其他类型的半导体器件和工艺进行特征分析，包括双极结型晶体管（BJT）。
