超晶格的半导体特性 如果超晶格是由两种具有不同带隙的半导体材料构成,每个量子阱都会形成新的选择定则影响电荷在此结构中的运动。这两种半导体材料是交替的以一定的周期沿着特定的生长方向来沉积的。自从1970年江崎和朱兆祥提出这种合成超晶格的方法以来,这种超细半导体的物理机制的研究已经取得了大量的成果。在量子限域(quantum confinement)概念提出以后,人们已经从孤立的量子阱异质结中观察到了量子效应,这些都通过遂穿现象和超晶格紧密的联系在了一起。所以这两种物理概念都是在同样的物理基础上进行讨论的,但是在电子学和光学设备上有着不同的应用。超晶格的分类 超晶格材料按形成它的异质结类型分为第一类、第二类和第三类超晶格。第一类超晶格的导带和价带由同一层的半导体材料形成。第二类超晶格的导带和价带在不同层中形成,因此电子和空穴被束缚在不同半导体材料层中。第三类超晶格涉及半金属材料。尽管导带底和价带顶在相同的半导体层中产生,与第一类超晶格相似,但其带隙可从半导体到零带隙到半金属负带隙之间连续调整。超晶格又分以下几种1.组分超晶格:在超晶格结构中,如果超晶格的重复单元是由不同半导体材料的薄膜堆垛而成的 叫做组分超晶格2.掺杂超晶格:在同一种半导体中,用交替地改变掺杂类型的方法做成的新型人造周期性半导体结构的材料掺杂超晶格的优点:任何一种半导体材料只要很好控制掺杂类型都可以做成超晶格;多层结构的完整性非常好,由于掺杂量一般比较小,杂质引起的晶格畸变也较小,掺杂超晶格中没有像组分超晶格那样明显的异质界面;掺杂超晶格的有效能量隙可以具有从零到位调制的基体材料能量隙之间的任何值,取决于各分层厚度和掺杂浓度的选择。3.多维超晶格4.应变超晶格半导体材料的特性?常见的半导体材料有硅(si)、锗(ge),化合物半导体,如砷化镓(gaas)等;掺杂或制成其它化合物半导体材料,如硼(b)、磷(p)、锢(in)和锑(sb)等。半导体材料应用最大的是什么材料呢? 硅是产量最大、应用最广的半导体材料,它的产量和用量标志着一个国家的电子工业水平各层的主要半导体性质如带隙和掺杂水平可以独立地控制。多层薄膜的周期可以在生长时人为控制,因而得到了人造的晶体结构即超晶格。多层薄膜中各层的组分突变的超晶格称为组。
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