为什么要采用溶液涂布型做金属氧化物半导体有源层 半导体制造工艺进行扩散和注入，形成 IC 有源器件的部分.这种结构由三层不同类型半导体材料构成，中间层通常为厚度为0.1～0.3μm的窄带隙P型半导体，称为有源层，作为工作介质，两侧分别为具有较宽带隙的N型和P型半导体，称为限制层.具有不同带隙宽度
半金属与半导体有何差异，如何准确区分？ 网上说半金属禁带宽度很小或者为零，那是否比金属禁带宽度还要小，感觉半金属概念不清
电镀和电解什么区别
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