椭圆偏振技术的基本原理 此技术是用来测量“光在反射或穿透样品时，其偏振性质的改变”这样一个数据实验。通常，椭圆偏振多在反射模式下进行。偏振性质的改变主要是由样品的性质，如厚度、复折射率或介电性质（参见英文版Dielectric function），来决定。虽然光学技术受制于先天绕射极限的限制，椭圆偏振却可借由相位资讯及光偏振之状态的改变，来取得埃等级的解析度。在最简单的形式下，此技术可适用于厚度小于一奈米到数微米之间的薄膜。样品必须是由少数几个不连续而有明确介面、光学均匀且具等向性且非吸收光的膜层构成。根据上述的假设，则会不符合标准椭圆偏振处理的程序，因此需要对此技术改进以符合其应用.
线偏振光垂直入射到二分之一或四分之一波片后，偏振状态怎么变化？ 线偏振光经过二分之一波片 还是线偏振光 但是偏振方向与原偏振方向垂直经过四分之一玻片后 变为椭圆偏振光
椭圆偏振和反射法测试膜厚方法的区别 选用Si3N4薄膜和Zr O薄膜两种光学材料作为测试对象以研究椭圆偏振法测量薄膜厚度的精度。实验结果表明，椭圆偏振法的精度较高，但对于。
