二氧化硅和氢氟酸反应的离子方程式 生成四氟化硅和水SiO2+4HF=SiF4+2H2O
硅和氢氟酸反应 是的，常温下，硅单抄晶在纯HF中的腐2113蚀速度很小，但在纯5261HF中加一滴HNO3，腐蚀速4102度会大大增加。我做1653硅料酸洗的，我们的酸就是HNO3和HF的混合酸。在这个过程中，参与反应的不是硅本身，而是硅表面的金属杂质。涉及到电化学腐蚀的知识。通常用的非择优腐蚀剂的配方为：HF(40-42%)：HNO3(65%)=1：2.5它们的化学反应过程为：Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2+4H2O
(1)二氧化硅与氢氟酸反应化学方程式和离子方程式-没区别。（2）SiO2+4HF=SiF4+2H2OOK。
