椭圆偏振技术的基本原理 此技术是用来测量“光在反射或穿透样品时，其偏振性质的改变”这样一个数据实验。通常，椭圆偏振多在反射模式下进行。偏振性质的改变主要是由样品的性质，如厚度、复折射率或介电性质（参见英文版Dielectric function），来决定。虽然光学技术受制于先天绕射极限的限制，椭圆偏振却可借由相位资讯及光偏振之状态的改变，来取得埃等级的解析度。在最简单的形式下，此技术可适用于厚度小于一奈米到数微米之间的薄膜。样品必须是由少数几个不连续而有明确介面、光学均匀且具等向性且非吸收光的膜层构成。根据上述的假设，则会不符合标准椭圆偏振处理的程序，因此需要对此技术改进以符合其应用.
怎么设置一个实验装置用来区别椭圆偏振光和部分偏振光？ 椭圆偏振光 光矢量端点在垂直于光传播方向的截面内描绘出椭圆轨迹。检偏器旋转一周，光强两强两弱。椭圆偏振光可用两列沿同一方向传播的频率相等、振动方向相互垂直的线。
如何产生椭圆偏振光 总体2113思路就是将一束同相位光分成5261两束，分别通过相互垂直的偏振片4102，再用透明薄片将其中1653一束光的相位延迟1/4，并将分开的这两束光重新混合，得到椭圆偏振光。椭圆的偏振光是指光的电场方向或光矢量末端在垂直于传播方向的平面上描绘出的轨迹。当两个相互垂直的振动同时作用于一点时，若它们的频率相同并且有固定的位相差，则该点的合成振动的轨迹一般呈椭圆形。
