硅和氢氟酸反应 是的，常温下，硅单抄晶在纯HF中的腐2113蚀速度很小，但在纯5261HF中加一滴HNO3，腐蚀速4102度会大大增加。我做1653硅料酸洗的，我们的酸就是HNO3和HF的混合酸。在这个过程中，参与反应的不是硅本身，而是硅表面的金属杂质。涉及到电化学腐蚀的知识。通常用的非择优腐蚀剂的配方为：HF(40-42%)：HNO3(65%)=1：2.5它们的化学反应过程为：Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2+4H2O
硅与氢氟酸反应吗 硅与氢氟酸很难反应；但如果有氧化剂存在，则反应很容易进行.如还有硝酸存在时：3Si+4HNO3+18HF=3H2SiF6+4NO+8H2O
氢氟酸的应用 经过研究表明：氢氟酸和熔融氢氧化钠都能用于微丝表面玻璃包覆层的去除，室温下氢氟酸去除厚度为10 μm的玻璃包覆层的时间大约为150 s，熔融氢氧化钠大约需要10 s；玻璃的成分和结构是影响玻璃包覆纯铜微丝耐腐蚀性能的重要因素。采用熔融纺丝法制备了玻璃包覆纯铜微丝，对微丝表面玻璃包覆层的去除进行了实验研究，评价了微丝在氢氟酸和熔融氢氧化钠中的腐蚀行为，分析了玻璃包覆纯铜微丝在强酸和强碱中的耐腐蚀性能，探讨了其腐蚀机理。
